成功取得突破!中芯國際傳來訊息,臺積電不再是唯一的選擇

相信大家對中芯國際都不陌生,中芯國際是全球最大的積體電路代工企業,在國內的排名也一直都是名列前茅,為國內的晶片行業做出了很大的貢獻。雖然在去年美國針對我國晶片行業“斷供”之後,國家相關部門對中廠實施了新政策,但是不管是之前的晶片製造、晶圓代工等等行業都還是會繼續為國內企業提供服務。

所以,如今隨著我國5 G建設步伐加快落地,臺積電等美國企業也不再是唯一選擇。但說起真正能夠給半導體行業提供幫助的事情就是光刻機、刻蝕機了,如今臺積電也已經是美國打壓中國企業“重點打擊”物件。

成功取得突破!中芯國際傳來訊息,臺積電不再是唯一的選擇

近日中芯國際傳來訊息稱,中芯某一產品成功取得突破。訊息傳回國內後,眾多網友們都表示在這一領域中已經取得突破。

中芯國際取得突破

雖然臺積電的業務並不是直接依賴於中芯國際,但是中芯國際作為全球最大的積體電路代工企業,一旦失去了臺積電的供應,那麼後續的一切晶片代工、晶圓製造、封裝等業務都將會受到影響。在美國晶片企業的打壓之下,我國半導體行業發展就更快了。

雖然國內半導體產業一直以來都是被臺積電壟斷著,但是現在除了華為之外,國內能夠讓臺積電真正失去市場的公司也不多了。

成功取得突破!中芯國際傳來訊息,臺積電不再是唯一的選擇

據瞭解,中芯國際此次取得的突破就是指高階光刻機產品。而中芯國際本次取得突破的光刻機則可以被稱為5 nm及以下先進製程的裝置。據介紹該產品不僅能夠滿足如今主流10 nm製程以及5 nm以上先進製程設計需求,還可以為未來的量產做準備。

光刻機技術

但我們知道,目前光刻機技術已經突破了90 nm,所以美國再想在這一領域取得突破就只能是想辦法去實現更低功率的光刻了。

而且據報道稱,美國正想要獲得50臺光刻機,這樣的技術水平完全不可能達到。所以為了在這一領域取得突破,其實我們也可以理解,畢竟光刻機不單單是一個光刻裝置,它還是一種晶圓加工技術。從中芯國際近期宣佈的訊息來看,中芯已經在30 nm EUV光刻機上成功驗證出技術。

成功取得突破!中芯國際傳來訊息,臺積電不再是唯一的選擇

從曝光技術來看,其實和90 nm的光刻機有很大差別。90 nm光刻機能在200 nm和28 nm之間自由切換,而75 nm和30 nm之間還存在一定比例的工藝重疊值。而85 nm在工藝上來說有明顯的區別,90 nm是一種很新的工藝,在工藝重疊上就有了更大的區別。

刻蝕機技術

光刻機在我們國家發展這麼多年來,已經非常成熟了。但光刻機又是一個技術門檻比較高的產品,目前能達到頂尖水平的也就只有光刻技術了。而且就算是光刻機技術達到頂尖水平,光刻精度又能達到多大呢?

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光刻機光刻精度是20 nm (奈米),而光刻機解析度可以達到1 nm,而刻蝕是在矽片上進行刻蝕操作。這就導致不管是光刻機還是刻蝕技術都有很大的差別。如果想要進一步提升對光刻的研究和發展,光刻機光刻精度越高越好。

如果說不是光刻機技術高,但是刻蝕技術不行,那麼光刻機刻蝕精度和光刻機一樣差也是事實。

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