科技...半導體工藝》透過新型蝕刻和清潔方法改善半絕緣InP襯底的表面質量2022-06-19 TAG: 清洗晶片工藝磷化銦InP總結我們研究了製備過程中外延InP晶片的溼法化學清洗工藝,並引入了一種新的清洗方法,即在標準酸洗工藝中加入氫氧化鈉溶液,以減少表面矽汙染...More Detail