《炬豐科技-半導體工藝》光學鏡片和玻璃部件的超聲波清洗

書籍:《華林科納-半導體工藝》

文章:光學鏡片和玻璃部件的超聲波清洗

編號:JFKJ-21-1107

作者:華林科納

引言

作為光學部件的鏡頭,由於其光學特性,有各種各樣的硝種,被認為是不可能用水清洗的,同時,由於其量產化的計劃,無論如何都必須自動化,與大型照相機制造商共同研究,試製了光學鏡頭的超聲波自動清洗裝置,才確立了量產化。之後,鏡頭的自動清洗裝置大量銷售,並且透過清洗系統的改良、機構的簡化、洗滌劑的開發、振動器的改良等,一直延續到現在。

實驗

就像光學透鏡一樣, 液晶玻璃, 磁碟, 磁磁頭 光掩膜等表面拋光的零部件的清洗, 已經有人說,如果不使用超聲波清洗,就無法得到清潔面。當然, 超聲波清洗不是全部,與其他清洗方法的組合,洗滌劑的選擇,清洗系統的構成,乾燥系統的構成等都是重要的因素,不要忘記。在原理上被認為是理所當然的。使用單一共振頻率的振子強制製造駐波, 相反,我們需要做的是, 如何使安裝有振動器的面有效地進行活塞運動。當然, 洗滌物, 如果進行機械性的搖擺運動,就會橫穿氣蝕發生區, 反而可以期待同樣的洗淨效果。

因此,與以往的使用空化的洗滌的想法不同。像這樣,超聲波洗滌有各種系統的組合方法,如果頻率、振動器輸入等不設定適當的值,洗滌物就無法洗滌,反而會造成損傷,因此必須十分注意這些系統的選定。因此,本公司一旦有洗滌委託,就會請教其前工序,即附著了什麼樣的汙物,經過什麼樣的工序附著了汙物,根據這些來決定洗滌系統。然後,進行實驗,判斷洗滌結果,進入該裝置的設計。這樣,洗滌系統的構成非常複雜,關於該洗滌需要經驗,而且由於包含了很多技術訣竅,所以洗滌被認為是最容易的,也是最難的。下面介紹各種超聲波自動洗滌裝置的洗滌工序、特徵等。

氟利昂溶劑的大氣汙染問題浮出水面, 因此,氟利昂溶劑受到限制,在清洗裝置的乾燥工序中,氟利昂逐漸無法使用,因此,關於其乾燥,代替氟利昂的溶劑在各溶劑製造商開始銷售,但是完全代替氟利昂的溶劑在現在看來很難。一部分超聲波清洗裝置製造商採取了封閉氟利昂的方式,即使勉強進行完全封閉也是一種方法。在測試例子中,有盤(3。5英寸,5英寸等)、陶瓷基板、液晶玻璃、塑膠透鏡等。

為了解決磁性磁頭的加工過程複雜且精確的問題,並且必須在加工過程中進行各種洗滌。透過超聲波清洗剝離頭部,將頭部掉落到網中。當然,由於會產生劃痕的問題,所以設計轎廂是為了將各個頭部放入網框中。這是根據粘著劑的種類,可以用一種液體進行清洗乾燥的情況,也可以用鹼清洗進行剝離,用水清洗進行溶劑乾燥的多槽式的情況。由於各公司的粘著劑各不相同,所以必須對剝離液進行討論。

抗滑動特性也很優異。另外,薄膜磁頭輕,小,所以面向窄磁軌,FDD用也批次生產了各種各樣的種類。

為了清洗這樣的各種磁頭,請注意前一工序中的汙垢,籃子的形狀,超聲波的振動方向,頻率的選擇等的因素必須考慮洗滌液系統。特別是HDD用複合頭由於使用了一部分低熔點玻璃,如果在洗滌劑、純水等中浸泡最長時間的話會損壞,所以洗滌劑的種子類,有必要選定清洗和水的超聲波清洗時間。由於噴頭表面附著有研磨劑、蠟等,所以用溶劑除去,用下面的洗滌劑除去無機物,這與玻璃的清洗是一樣的。只是洗滌劑的效果好,必須容易水洗。

討論和總結

關於光學刮水器、玻璃、陶瓷等表面拋光面的清洗,我們只介紹了具有代表性的各種裝置、清洗工序,與半導體清洗精度的提高一樣,清洗精度也會進一步提高,與此同時,自動清洗裝置的完全自動化的要求也是近在咫尺。

《炬豐科技-半導體工藝》光學鏡片和玻璃部件的超聲波清洗

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