《炬豐科技-半導體工藝》薄膜矽太陽能電池製造工藝

書籍:《炬豐科技-半導體工藝》

文章:薄膜矽太陽能電池製造工藝

編號:JFKJ-21-081

作者:炬豐科技

摘要:高效薄膜太陽能電池需要高吸收、低缺陷的吸收層, 透明導電氧化物 (TCO) 薄膜,具有超過 80% 的高透光率和高導電性。此外,光線可以透過玻璃基板被捕獲併發送到光吸收層以提高效率。本文采用HF對玻璃基板表面形貌形成進行了研究,主要分為隨機蝕刻和週期性蝕刻。我們討論了蝕刻機制、蝕刻速率和硬掩模材料,以及週期性的光捕獲結構。

關鍵詞: 光捕獲, 溼法蝕刻, 化學, 氫氟酸, 薄膜, 太陽能電池

1。 介紹

由於其獨特的效能,被廣泛應用於光學器件、MEMS器件和太陽能電池。光學透明和承受大量光散射影響的能力可以被認為是這方面最顯著的特性。玻璃是一種相對容易的組合,由於其獨特的太陽能電池的光捕獲特性,材料可以提供所需的形狀。

薄膜矽太陽能電池 作為光伏器件具有巨大的潛力。以全自動方式大規模生產允許玻璃基板和低材料使用量,每瓦成本低優於晶體矽太陽能電池。在薄膜矽太陽能電池中,氫化非晶矽或微晶矽用作吸收層。為了使太陽能電池有效地吸收光,高效太陽能電池需要紋理表面的光管理。表面紋理會導致透射光的散射增強,然後在入射光的表面上產生低反射。

帶紋理的表面增加了光路長度, 也提高了光電流和量子效率。為了使光捕獲的表面形態,它獲得透明導電氧化物層上。化學蝕刻的 AZO 薄膜顯示出更好的光捕獲特性,它僅在較短波長下有效,但在較長波長下相對降低。必須獲得它以減少損失以獲得更好的光散射和內反射。它在室溫下很容易被氫氟酸或其他含 HF 的水溶液溶解。在基於 HF 的蝕刻劑中的受控溶解可用於使用相關玻璃應用去除材料。HF 水溶液中玻璃的溼化學蝕刻是一個研究多年的課題。由於太陽能電池作為基板的光捕獲應用而被更廣泛地研究。為了使用蝕刻技術更好地捕獲光,它考慮了分別在短波長區域具有小尺寸結構和在長波長區域具有大尺寸結構的散射效應。

2。溼化學法隨機蝕刻玻璃的蝕刻機制、蝕刻速率和玻璃型別   略2。1蝕刻反應;HF、HF/HCl 和 HF/H2SO4(機理)   略2。2用於蝕刻玻璃的表面形態、蝕刻速率和玻璃型別  略

3。週期性織紋玻璃形態的研究  略

3。1玻璃蝕刻和硬掩模層型別    略

4。應用與結論   略

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