太給力!147nm 裝置來了,或供華為、中芯國際!

國內裝置,是迎來了“爆發期”?

當年60歲的尹志堯從外歸來,經過多年的努力將蝕刻機做到了5nm這種領先的水平。而上海微電子的光刻機,現在雖然只是90nm,但根據不少爆料稱28nm的裝置也即將落成,

如此一來,國內也算是在半導體這條生產線上逐漸地實現了屬於我們自己的生產,各個環節也都實現了突破!

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尹志堯在某大會上表示,國內應該注重在半導體裝置方面的投資,甚至也曾呼籲過國內半導體裝置廠商要避開單打獨鬥的局面,要合縱連橫的與其他裝置廠商共同作戰。我想他有這樣的呼籲,多半是想實現一定的生態吧,再者,積體電路本身就是一個集大成的活,一個企業很難帶動整個產業的發展,而合作、大力投資,共同進步,才是良策。

近期國內又一家半導體裝置迎來了突破,當看到其主要客戶的時候,不少網友就直呼,中芯國際、華為又得到一股力量了!

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14/7nm國產裝置或明年交付!

一顆晶片的誕生必然是經過設計、製造、封測等多個環節,而在製造過程中很多人對裝置的認知可能就是光刻機、蝕刻機,但其實還有一些比較重要的裝置,如溼法工藝裝置。

從字面上看也就知道,這種裝置主要就是起到“清洗”的作用,如清洗晶圓表明的顆粒、金屬離子、甚至包括一些氧化層、犧牲層之類的東西。而清洗原理也是分為幹法和溼法清洗兩種裝置,但就目前來看市面上90%的清洗步驟都是使用溼法裝置,而國內的至純科技的主要生產就是這類裝置。

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就在近日有媒體爆料稱,至純科技已經實現了“28nm 節點全部溼法工藝裝置已認證完畢。”

其中還有媒體指出,14nm以及7nm工藝預計到2022年就能交給客戶驗證,其客戶主要包括中芯國際、華為、華虹等。

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知道這意味著什麼嗎?

其一,我們要知道半導體清洗裝置基本是被外部所壟斷著,如日本東京電子、美拉姆研究等等,我們的國產化佔比不到10%,所以當至純科技被爆出這一突破後,至少說明我們在該方面的技術,獲得了一定的突破。

其二,前面提到的,其客戶諸如中芯國際、華為等企業,換言之,到後期不出意外的話,

這些企業應該能夠率先使用上該裝置,那麼也將因此提高我們在該領域的國產化佔比!

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當然,就目前來看依然是聚焦於28nm,但也提到14nm或7nm也將未來幾年能夠實現,這起碼是一個希望。

此前溫曉君就表示過,今年或明年,國產28nm或14nm晶片將會迎來量產,當時還有人質疑這背後的“純度”是多少,如今看來,似乎“質量”更高了!

於國內而言,我們所需要的又何止是光刻機、蝕刻機、溼法清洗裝置呢,還有很多很多,包括晶片設計的軟體等等,但是我們已經在路上了,且越來越多的企業、人才加入進來,相信用不了多久,中國芯也一定能夠迎來突破!

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道路漫漫,共同加油,共同期待!

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