一文看懂半導體刻蝕裝置
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一文看懂半導體刻蝕裝置

文章大綱1.半導體刻蝕:佔比較高的關鍵晶圓製造步驟刻蝕是半導體制造三大步驟之一干法刻蝕優勢顯著,已成為主流刻蝕技術刻蝕機主要分類:電容電感兩種方式,優勢互補2.工藝升級帶動刻蝕機用量增長,技術壁壘極高製程升級帶動刻蝕機使用提升刻蝕裝置並未出...

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中國半導體巨頭崛起,突破5nm蝕刻機技術,或帶領中國芯突出重圍
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中國半導體巨頭崛起,突破5nm蝕刻機技術,或帶領中國芯突出重圍

所以,在美國晶片斷供的高度壓力下,不少中國相關製造企業開始加速推進技術和高階裝置的自主研發,而在關鍵製造裝置-光刻機範疇雖然尚未突破西方國家的封鎖,但是在必要領域卻有一家半導體巨頭迅猛崛起,它的存在不僅是中國半導體產業的榜樣,同時在它的帶領...

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