三星華城廠V1產線工藝問題,部分5奈米產品良率不到50%

三星華城廠V1產線工藝問題,部分5奈米產品良率不到50%

CINNO Research產業資訊,據瞭解,三星電子華城工廠半導體生產線部分超細微工藝出現生產問題。良品率率低於50%,簡單地說,做10個產品的話,正常品不到一半。

據分析指出,為了改善良品率,投資尖端裝置是關鍵。

三星華城廠V1產線工藝問題,部分5奈米產品良率不到50%

資料圖(圖片來源:網際網路)

去年2月,三星電子在京畿道華城的V1線開始稼動。

V1是7奈米以下先進半導體生產園區,是全球首條極紫外線、EUV專用生產線。

多位業內人士表示,“近期V1線的Foundry生產良品率沒有改善,5奈米等部分量產產品良品率在50%以下。”

良品率是決定半導體技術實力和企業業績的最重要因素。

三星華城廠V1產線工藝問題,部分5奈米產品良率不到50%

黃鐵成/首爾大學材料工程部首席教授稱,在半導體制造中,良品率指的是在晶圓上的晶片數量與良品的比率。良率越高,生產的良品就越多,利潤就越好。因此,良品率是最重要的生產因素。

目前,三星正與臺灣TSMC在5奈米以下超細微工藝上角逐勝負。

分析指出,為了改善先進工藝產出率,EUV曝光裝置等尖端裝備投資是關鍵。

三星華城廠V1產線工藝問題,部分5奈米產品良率不到50%

資料圖(圖片來源:網際網路)

李宗煥/詳明大學系統半導體工程系教授稱,細微工藝適用的良品率一般超過95%以上。這樣在計算成本時,才會有收益。如果不大規模地嘗試曝光裝置的量產規模,需要長時間進行最佳化,但是預計三星顯示終將會克服這一問題

三星電子表示,“量產品的良率無法公佈”,並稱“整個生產線的量產運營正在按計劃進行”。

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